Canon ha suministrado su más reciente sistema litográfico de producción de chips a un consorcio de semiconductores con sede en Texas, a fin de arrebatar cuota de mercado al líder ASML mediante la simplificación del paso más costoso en la fabricación de dicho producto.

La firma japonesa señala en una declaración que dicho sistema permite obtener patrones con una anchura de pista mínima de 14 nanómetros (nm), equivalente al proceso de nodo de 5 nm necesario para fabricar los semiconductores lógicos más avanzados disponibles en la actualidad.

Según Canon, la entrega de la primera máquina de litografía de nanoimpresión (NIL) estaba prevista para el 26 de setiembre. Su destinatario es el Instituto de Electrónica de Texas, que la usará en I+D sobre semiconductores avanzados y producción de prototipos.

La empresa nipona también ha informado de que el consorcio cuenta con el apoyo de la Universidad de Texas en Austin y ofrece acceso abierto a iniciativas de I+D de chips e instalaciones de creación de prototipos, a fin de resolver problemas relacionados con la tecnología de semiconductores avanzados.

Canon explica que los equipos tradicionales de fotolitografía transfieren un patrón de circuito proyectándolo sobre la resina “que se aplica a la oblea para grabar un circuito”, mientras que el método NIL consiste en estampar un molde del diseño en ella.

En 2023, la firma japonesa presentó la máquina en cuestión, que permite una simplificación del proceso y rebaja los costes de la fabricación de chips, porque estampa los diseños en vez de reproducirlos mediante quemaduras de luz ultravioleta.